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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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[常見問題]半導體拋光中銅拋光液和鎢拋光液的區(qū)別[ 2023-08-18 16:58 ]
  常用的半導體拋光液,按拋光對象的不同分W鎢拋光液、CU銅拋光液、氧化層拋光液、STI拋光液等。其中銅拋光液slurry主要應用于 130nm 及以下技術節(jié)點邏輯芯片的制造工藝,而鎢拋光液W slurry則大量應用于存儲芯片制造工藝,在邏輯芯片中用量較少。  銅拋光液,主要由腐蝕劑、成膜劑和納米磨料組成。腐蝕劑用來腐蝕溶解銅表面,成膜劑用于形成銅表面的鈍化膜,鈍化膜的形成可以保護腐蝕劑的進一步腐蝕,并可有效地降低金屬表面硬度。除此之外,CMP拋光液中經(jīng)常添加一些化學試劑以調節(jié)PH值,為拋光過程
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[吉致動態(tài)]吉致電子常見的CMP研磨液[ 2023-02-27 16:15 ]
  CMP 化學機械拋光液slurry的主要成分包括:磨料、添加劑和分散液。添加劑的種類根據(jù)產(chǎn)品適用場景也有所不同,分金屬拋光液和非金屬拋光液。金屬CMP拋光液含:金屬絡合劑、腐蝕抑制劑等。非金屬CMP拋光液含:各種調節(jié)去除速率和選擇比的添加劑。  根據(jù)拋光對象不同,拋光液可分為銅拋光液、鎢拋光液、硅拋光液和鈷拋光液等類別。其中,銅拋光液和鎢拋光液主要用于邏輯芯片和存儲芯片制造過程,在10nm 及以下技術節(jié)點中,鈷將部分代替銅作為導線;硅拋光液主要用于硅晶圓初步加工過程中。吉致電子常見的CMP研
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[行業(yè)資訊]半導體拋光液--球型二氧化硅拋光液的用途[ 2022-11-23 15:21 ]
  球形硅微粉作為拋光液磨料,可大大提高產(chǎn)品的剛性、耐磨性、耐候性、抗沖擊性、耐壓性、抗拉性、阻燃性、良好的耐電弧絕緣性和耐紫外線輻射性。讓我們來看看球型二氧化硅拋光液在電子芯片中的一些應用。  精密研磨粉高純球形硅粉用于光學器件和光電行業(yè)的精密研磨,特別適用于半導體單晶多晶硅片、顯像管玻殼玻屏、光學玻璃、液晶顯示器(LCD、LED)玻璃基板、壓電晶體、化合物半導體材料(砷化鎵、磷化銦)、磁性材料等半導體行業(yè)的研磨拋光。  吉致電子用高純球形硅粉制備成的超高純硅溶膠拋光液slurry,
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[行業(yè)資訊]金屬手機邊框的鏡面拋光方法是什么?[ 2022-10-31 16:01 ]
  手機金屬外殼/手機邊框材質一般為不銹鋼、鈦合金、鋁合金等,如華為\Iphone手機金屬邊框要達到完美的鏡面效果需要精拋步驟----手機鏡面拋光液slurry的主要成份是二氧化硅,二氧化硅拋光液外觀為乳白色,呈懸浮液狀態(tài),在拋光過程中起到收光磨料的作用。  金屬手機精拋液的主要技術要求是什么呢?①鏡面拋光液PH值的選擇:PH值高低很可能會影響到最終的拋光效果,高低差別會導致手機金屬工件發(fā)黑氧化,以及麻點和起霧,所以如何控制PH值非常重要。②鏡面拋光液磨粒大小的選擇:氧化硅磨料顆粒大小,直接影響
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[吉致動態(tài)]吉致電子 射頻濾波器拋光液slurry廠家[ 2022-10-20 17:38 ]
  射頻濾波器發(fā)展至今,基本主要有兩種構型,其中,一類是SAW濾波器(聲表面波,Surface Acoustic Wave),另一類是BAW濾波器(體聲波,Bulk Acoustic Wave),而BAW濾波器又可細分為SMR(固態(tài)裝配諧振器,Solidly Mounted Resonator)和FBAR(薄膜腔諧振器,Film Bulk Acoustic Resonator)4-6。目前市場主流的濾波器是SAW(聲表面波濾波器)、BAW(體聲波濾波器)和FBAR(薄膜腔聲諧振濾波器)  隨著5
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[行業(yè)資訊]吉致資訊第151期:生活中離不開的“濾波器”[ 2021-08-21 08:52 ]
吉致資訊第151期:生活中離不開的“濾波器” 我們生活中離不開一樣潛在的東西,那就是濾波器,我們不管是wifi、藍牙、手機的2g/3g/4g/5g等的信號發(fā)射和接受都需要濾波器,一臺小小的手機就需要數(shù)十個濾波器的元器件,而濾波器的主要性能就是性能,而平坦度直接影響其性能,所以在生產(chǎn)濾波器的過程中會進行CMP化學機械拋光,其需要用到拋光液slurry,目前這一耗材長期受國外“卡脖子”,國外企業(yè)說斷供就斷供,而目前國內無錫吉致電子科技有限公司聘請國外留學歸來博士
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