鉭酸鋰LiTaO3作為非線性光學(xué)晶體、電光晶體、壓電晶體、聲光晶體和雙折射晶體等在現(xiàn)今以光技術(shù)產(chǎn)業(yè)為中心的IT 產(chǎn)業(yè)中得到了廣泛的應(yīng)用。 晶體材料的結(jié)構(gòu)與其光學(xué)性能息息相關(guān)，鉭酸鋰LT晶體是一種優(yōu)良的多功能材料，具有很高的應(yīng)用價值。LiTaO3晶體以它的化學(xué)性能穩(wěn)定高（不溶與水），居里點高于600℃，不易出現(xiàn)退極化現(xiàn)象，介電損耗低，探測率優(yōu)值高的優(yōu)良特性，成為熱釋電紅外探測器的應(yīng)用材料。

  經(jīng)過CMP半導(dǎo)體研磨液拋光的LT晶片廣泛用于諧振器、濾波器、換能器等電子通訊器件的制造，尤其以它良好的機電耦合、溫度系數(shù)等綜合性能而被用于制造高頻聲表面波器件，并應(yīng)用在手機、對講機、衛(wèi)星通訊、航空航天等許多高端通訊領(lǐng)域。

  光學(xué)級鉭酸鋰晶片(Optical Grade LiTaO3Wafer)：CMP雙面拋光 S/D  20/10 TTV: ＜10μm BOW:＜30μm

常規(guī)雙拋片 單拋片 Y36° Y42°
(1)晶片表面光潔度：Ra＜10
(2)晶片背面：客戶可自定粗糙度指標

 吉致電子CMP半導(dǎo)體研磨液，適用LT/LN鉭酸鋰/鈮酸鋰晶圓的拋光和平坦化，是一種高性能的CMP Slurry光學(xué)研磨拋光漿料，具有高的移除率，研磨后可獲得較高的平整度、較低的缺陷率和較高的生產(chǎn)率。

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