納米二氧化硅拋光液由高純納米氧化硅SiO₂等多種復合材料配置而成，通過電解法或離子交換法制備成納米拋光液，硅拋光液磨料分散性好，具有高強度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點，是一種性能優(yōu)良的CMP拋光材料。廣泛應用于金屬或半導體電子封裝拋光工藝中。

吉致電子硅拋光液，CMP拋光slurry應用范圍：

1、可用于微晶玻璃的表面拋光加工中。

2、用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過程，適用于大規(guī)模集成電路多層化薄膜的平坦化加工。

3、用于晶圓的后道CMP清洗等半導體器件的加工過程、平面顯示器、多晶化模組、微電機系統(tǒng)、光導攝像管等的加工過程。

4、廣泛用于CMP化學機械拋光，如：碳化硅襯底、化合物晶體、精密光學器件、硬盤盤片、藍寶石襯底等納米級及亞納米級拋光加工。

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